低铈系稀土抛光粉的制备

以少铕氯化稀土（w（REO）≥45%,w（CeO2）≥48%）为原料，以合成中间体（沉淀剂）进行复盐沉淀等处理，可制备低级铈系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为：

原料→溶解→复盐沉淀→过滤洗涤→高温煅烧→粉碎→细磨筛分→低级铈系稀土抛光粉产品。

主要设备：溶解槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，粉碎机，细磨筛分机。主要指标：产品中w（REO）=85%~90%,w（CeO2）=48%~50%;稀土回收率约95%;平均粒径0.5μm~1.5μm（或粒度320目~400目）。该产品适合于光学玻璃等的高速抛光之用。用混合型的氟碳铈矿高品位稀土精矿（w（REO）≥60%,w（CeO2）≥48%）为原料，直接用化学和物理的方法加工处理，如磨细、煅烧及筛分等可直接生产低级铈系稀土抛光粉产品。

其主要工艺过程为：

原料→干法细磨→配料→混粉→焙烧→磨细筛分→低级铈系稀土抛光粉产品。主要设备：球磨机，混料机，焙烧炉，筛分机等。主要指标：产品中w（REO）≥95%,w（CeO2）≥50%;稀土回收率≥95%;产品粒度为1.5μm~2.5μm.该产品适合于眼镜片、电视机显象管的高速抛光之用。目前，国内生产的低级铈系稀土抛光粉的量最多，约占总产量的90%以上。